WMA – Monitoraggio remoto di metalli pesanti in transito sul corpo idrico

Il controllo continuo in linea con conseguente rilevazione in situ di inquinanti, dovrebbe essere uno dei metodi più utilizzati per il monitoraggio dell’ambiente terrestre. Questo tipo di tecnica risulta particolarmente importante ed efficace per l’individuazione delle sostanze inquinanti emergenti, a seguito del progresso industriale e dell’evoluzione dei prodotti chimici utilizzati nell’industria manifatturiera.

Da |maggio 9th, 2016|Plasma Science & Technology|Commenti disabilitati su WMA – Monitoraggio remoto di metalli pesanti in transito sul corpo idrico|

Science & Applications of Thin Films, Conference & Exhibition (SATF2014)

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Overview of the Conference

Science and Applications of Thin Films, Conference & Exhibition (SATF 2014) will be held in Golden Dolphin Resort & Thermal Hotel, Çeşme, Izmir, Turkey, from September 15 to 19, 2014. The conference will focus on various topics related to Thin Films and novel phenomena in Thin Film science and applications. The conference is intended to provide an opportunity to get together, to exchange information and ideas, to promote stimulus discussions and collaborations among participants and furthermore to foster young scientists.

www.satf2014.org

Da |gennaio 29th, 2014|Eventi & News, Plasma Science & Technology, Surface Science|Commenti disabilitati su Science & Applications of Thin Films, Conference & Exhibition (SATF2014)|

Chemical Vapor Deposition CVD made easy

Oerlikon Leybold Vacuum enhances offer for R&D experimentation systems

July 23, 2013 – Chemical Vapor Deposition is widely used in research and development laboratories, especially for the synthesis of carbon nanostructures of graphene, vertically aligned carbon nanotubes or silicon nano wires. Oerlikon Leybold Vacuum now offers a safe, simple, plug & play solution.

“In this minuscule world of atomic-sized layers, fast and reproducible experiments are vital. The CVD Cube of Oerlikon Leybold Vacuum offers just these features in a very compact and reliable experimental system.” says Prof. Dr. Mark Hermann Rümmeli, Center for Integrated Nanostructure Physics (CINAP) IBS, Sungkyunkwan University, Suwon, Republic of Korea, the expert for graphene research at the IFW Institut für Festkörper und Werkstoffforschung in Dresden.
Chemical Vapor Deposition (CVD) is among the most reliable methods producing large area graphene films on different metal substrates with diverse carbon sources.

I Cluster – una soluzione alle continue richieste della ricerca

kenosistec-1801Kenosistec ha progettato e realizzato un sistema multicamera (cluster) con tecnologia PVD

Per un importante cliente americano attivo nella ricerca nel campo dei semiconduttori, Kenosistec ha progettato e realizzato un sistema multicamera (cluster) con tecnologia PVD. È costituito da due camere di processo PVD/Sputtering che alloggiano catodi da 4” per la deposizione di materiali metallici e ossidi, una camera di Etching e una camera di trasferimento automatico dotata di allineatore e load lock.

Il cluster realizzato per UHV utilizza un sistema di pompaggio efficiente costituito da pompa turbo molecolare e pompa criogenica. Questa combinazione permette di raggiungere vuoti nel range del 10-9 mbar in tempi estremamente veloci.