Torino, 27-28 Maggio 2014 ( scarica il pfd del corso)

Tecniche di deposizione e di caratterizzazione, applicazioni industriali e prospettive di ricerca.  

ORGANIZZATO DA :        AIV-Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia 

PRESSO:                   Aviospace   (Clicca a destra su “continua a leggere” per ulteriori informazioni)

Via Pier Carlo Boggio 59/61    10138 Turin, Italy Tel: +39 011 0867 100

ISCRIZIONI

http://www.aiv.it/Iscrizione-Corso-PVD-CVD-AIV.html

FINALITA’ DEL CORSO Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E’ frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI deposizione PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie. Programma lavori

  • Plasma Deposition Technologies Espedito Vassallo – Istituto di Fisica del Plasma-CNR
  • Physical Vapor Deposition of getter films: properties and application in MEMS Luca Mauri – SAES GETTERS
  • Pulsed laser deposition (PLD) Paolo Ossi – Politecnico di Milano
  • Evaporazione da fasci elettronici pulsati: caratteristiche, vantaggi e limiti deposizione di film sottili Stefano Rampino – IMEM CNR
  • Film sottili cresciuti con Chemical Vapour Deposition Pietro Mandracci – DISAT Politecnico di Torino
  • Caratterizzazione delle superfici dei materiali mediante Secondary ion mass spectrometry (SIMS) Mariano Anderle – Dip. della Conoscenza, Prov.Autonoma di Trento
  • Caratterizzazione delle superfici dei materiali mediante X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) Micaela Castellino – IIT Torino
  • Caratterizzazione delle superfici dei materiali mediante Scanning electron microscopy/Energy Dispersive Spectroscopy (SEM/EDS) G. Angella IENI-CNR
  • Ruolo del vuoto e delle superfici per applicazioni aerospaziali Franco Alberto Fossati – AVIOSPACE
  • Rivestimenti non convenzionali via sputtering Monica Ferraris – Politecnico di Torino
  • Visita SMARTLab Aviospace-Politecnico

SEDE DEL CORSO  Aviospace   http://www.aviospace.com/ Via Pier Carlo Boggio 59/61    10138 Turin, Italy Tel: +39 011 0867 100

27-28 MAGGIO 2014 – TORINO

Il Corso si svolgerà nella sede di AVIOSPACE
QUOTA DI PARTECIPAZIONE
  • 250 Euro per i Soci AIV 2014 (350 Euro per i non soci)
  • 150 Euro per Studenti

La quota comprende le dispense, il libro “Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso. Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.   ISCRIZIONE  L’iscrizione va fatta compilando l’apposito modulo di registrazione:

http://www.aiv.it/Iscrizione-Corso-PVD-CVD-AIV.html

Pagamento da effettuarsi entro il 15/05/2014  mediante: Bonifico bancario intestato a A.I.V. – Associazione Italiana Scienza e Tecnologia, Banca popolare Commercio e Industria, Segrate (MI) IBAN IT46W0504820600000000000783   COORDINATORI DEL CORSO Monica Ferraris – Politecnico di Torino Alberto Tagliaferro – Politecnico di Torino Espedito Vassallo – Istituto di Fisica del Plasma – CNR   SEGRETERIA ORGANIZZATIVA Per  ulteriori informazioni contattare: A. Riggio,  E-mail: segreteria@aiv.it Tel.: 02 66173238   Con la collaborazione di: