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Corsi di specializzazione tecnico scientifica 

Corso di Spettrometria
di Massa

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Corso di Tecnologie
del Vuoto

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Prossimi corsi in programma

CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD E CVD

  13/11/2019 - 14/11/2019

  Università di Genova

Scopri il programma

Programma

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori de  ll’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.  

Il programma completo è scaribabile di seguito:
corso AIV PVD-CVD.pdf

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

Quota di partecipazione

La quota di partecipazione è di 400 €.

Pagamento

La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

13/11/2019 - 14/11/2019
Università di Genova

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Quota di partecipazione
La quota di partecipazione è di 400 €.
Leggi di più

La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

  

* Campi obbligatori

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  11/11/2019 - 12/11/2019

  Università di Genova

Scopri il programma

Programma

La conoscenza della tecnologia del vuoto è necessaria in molti campi della ricerca e sviluppo e industriali. Il corso intende essere un’introduzione alla tecnologia del vuoto, dal basso vuoto al medio e alto vuoto, con cenni all’ultra alto vuoto. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano tale tecnologia per le loro attvità. Non ha la pretesa di completezza, ma fornisce ampi riferimenti bibliografici, normativi, e di standard, per permettere, a chi intende approfondire qualche argomento, un approccio più rigoroso e scientifico.

Il programma completo del corso è scaricabile di seguito:
XV_corsoAIV_Vuoto_Base.pdf

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova  

Docenti

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

Pagamento

La quota di iscrizione è di 400 €.
La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

11/11/2019 - 12/11/2019
Università di Genova

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Leggi di più

La quota di iscrizione è di 400 €.
La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

  

* Campi obbligatori