kenosistec-1801Kenosistec ha progettato e realizzato un sistema multicamera (cluster) con tecnologia PVD

Per un importante cliente americano attivo nella ricerca nel campo dei semiconduttori, Kenosistec ha progettato e realizzato un sistema multicamera (cluster) con tecnologia PVD. È costituito da due camere di processo PVD/Sputtering che alloggiano catodi da 4” per la deposizione di materiali metallici e ossidi, una camera di Etching e una camera di trasferimento automatico dotata di allineatore e load lock.

Il cluster realizzato per UHV utilizza un sistema di pompaggio efficiente costituito da pompa turbo molecolare e pompa criogenica. Questa combinazione permette di raggiungere vuoti nel range del 10-9 mbar in tempi estremamente veloci.