DIVENTA SOCIO AIV > > >

Corsi di specializzazione tecnico scientifica 

Corso di Spettrometria
di Massa

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Corso di Tecnologie
del Vuoto

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Corso di Microscopia particellare, elettronica e ionica, e Microanalisi


Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.  
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.


A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche


Linee guida

 
Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni  
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni


Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, UNIGE Genova    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Corso di Spettroscopia Fotoelettronica a raggi X (XPS)


Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

 
...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento


Richiedi il corso

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.  
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.


A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche


Linee guida

 
Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni  
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni


Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, UNIGE Genova    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Richiedi il corso

Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

 
...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento


Richiedi il corso

Prossimi corsi in programma

CORSO DI TECNOLOGIA DEL VUOTO E PROCESSI DI DEPOSIZIONE DI FILM SOTTILI

  08/11/2022 - 15/11/2022

   Corso telematico con esperienza pratica in laboratorio (Milano)

Scopri il programma

Programma

Novembre, 8-9, Tecnologia del vuoto (martedì e mercoledì
Novembre, 14, Tecnologie di deposizione (lunedì)
Novembre, 15, Parte sperimentale (martedì)

Primo giorno (Tecnologia del vuoto)

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
    • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
Secondo giorno (Tecnologia del vuoto)
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti 
    • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
    • Metodi di ricerca delle perdite
Terzo giorno (Tecnologie di deposizione)
Þ Deposizione da fase vapore di tipo fisico (PHYSYCAL VAPOUR DEPOSITION - PVD)
  • Evaporazione termica 
  • Deposizione laser (Pulsed Laser Deposition - PLD)
  • Plasma sputtering
Þ Deposizione da fase vapore di tipo chimico (CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION - CVD)
  • Thermal-CVD
  • Photo assisted-CVD
  • Plasma enhanced-CVD
Nel corso saranno trattati gli aspetti generali (definizioni, cinetiche di crescita, ecc..) e comuni alle diverse tecniche di deposizione e saranno presentati esempi di processi e applicazioni.
Quarto giorno (Esercitazioni in presenza)
  • Esercitazione su impianto da vuoto
  • Prova di deposizione
  • Caratterizzazione dei rivestimenti

Stampa il programma

Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali a una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili (strato di materiale di spessore di decine o centinaia di nanometri) in condizioni di bassa pressione. Ci sono diversi motivi per rivestire con un film sottile la superficie di un materiale. 
Alcuni esempi includono:

  • Rivestimenti per prevenire la corrosione 
  • Strati decorativi su gioielli e prodotti per cosmetica
  • Rivestimenti per interni ed esterni nell’automotive
  • Rivestimenti per incrementare le prestazioni e la durata di utensili 
  • Rivestimenti per migliorare le proprietà ottiche delle lenti oftalmiche 
  • Rivestimenti per la produzione di semiconduttori, celle solari o Touch-panel
  • Rivestimenti di specchi di lampade a riflettore
  • Rivestimenti su substrati polimerici per la conservazione della freschezza dei materiali alimentari
  • Rivestimenti per l’isolamento termico
Questo elenco non è esaustivo e nuove applicazioni emergono continuamente.
Le proprietà funzionali del film depositato dipendono fortemente dalle proprietà fisiche, chimiche e strutturali del film, che a loro volta dipendono dalle dinamiche con cui avviene il processo di deposizione.
Le tecnologie per la deposizione di film sottili sono molteplici e consistono in processi differenti, in generale si possono considerare tre fasi: la generazione dei precursori per la deposizione, il trasporto e l’adesione (condensazione) del materiale al substrato. Le tecnologie per la deposizione di film sottili possono essere suddivise in due categorie: Physical Vapour Deposition (PVD) e Chemical Vapour Deposition (CVD). Nella PVD il materiale da depositare (vapore atomico o “ionico”) può essere prodotto per evaporazione (il materiale da depositare viene scaldato e fatto sublimare), per sputtering (mediante la generazione di un plasma si producono ioni che sono accelerati verso un target, il bombardamento ionico estrae atomi portandoli in stato vapore), per Pulsed Laser Deposition (gli atomi in stato vapore sono generati dall’interazione laser-target che produce un plasma a forma di piuma). Nelle tecniche CVD si crescono film sottili sfruttando una reazione chimica che viene indotta in fase gassosa e in prossimità della superficie del substrato (decomposizione del precursore mediante riscaldamento del substrato).
Sia per la PVD sia per la maggior parte delle applicazioni CVD, la tecnologia del vuoto gioca un ruolo essenziale. La progettazione, la conduzione e la manutenzione degli impianti industriali dedicati alla produzione di film sottili richiedono elevate competenze in tale tecnologia. L’esperienza e la formazione teorica sono elementi imprescindibili che l’azienda deve possedere per operare in questo campo. Questa necessità è altrettanto importante nei centri di ricerca dove questi processi vengono analizzati per trovare soluzioni sempre più innovative e performanti. 
Concetti quali tensione di vapore, libero cammino medio, velocità di pompaggio, tempi di svuotamento, spettri di gas residuo, adsorbimento e desorbimento, sono solo alcune grandezze di cui si deve avere chiaro il significato profondo e non una semplice conoscenza superficiale. Purtroppo, è frequente imbattersi nelle seguenti problematiche:
  • Realizzazione di impianti mal dimensionati
  • Lunghi tempi di svuotamento, inaccettabili se confrontati con i tempi di produzione
  • Rivestimenti contaminati da idrocarburi e quindi di bassa qualità
  • Produzione di coating con insufficiente adesione al substrato e conseguente delaminazione del rivestimento
  • Utilizzo di materiali non compatibili con le condizioni di vuoto necessario per lo specifico processo
  • Utilizzo di parametri di lavoro identici per diverse tecnologie e/o diversi rivestimenti (ogni diverso processo richiede diverse procedure e impianti)
Tutte le questioni citate sono fondamentali a livello industriale, dove le perdite di prodotto e l’aumento dei costi possono compromettere la sostenibilità economica e la permanenza nel mercato di una azienda. Molte problematiche hanno però inevitabili conseguenze anche nel campo della ricerca, dove c’è il rischio di una errata interpretazione dei fenomeni con conseguente errata interpretazione dei risultati.

Questo corso prevede un’introduzione ai concetti e alle applicazioni di base della tecnologia del vuoto con focalizzazione su metodi di produzione, misurazione del vuoto e progettazione di sistemi da vuoto, oltre a cenni sulla risoluzione dei problemi e alla manutenzione dei sistemi. Particolare attenzione sarà dedicata alla discussione di quelle grandezze spesso utilizzate in modo improprio a causa di una conoscenza non adeguata della tecnologia. Questi contenuti saranno affrontanti tenendo presente che il corso ha un suo naturale seguito con la tecnologia di produzione di film sottili. In questa seconda parte saranno illustrate le basi teoriche delle tecnologie PVD e CVD evidenziando gli aspetti tecnologici e le peculiarità di tali tecniche, in modo da rendere consapevole il partecipante su quale di esse è preferibile in base alle applicazioni, ai materiali, ecc.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Segreteria organizzativa

Per info contattare: segreteria@aiv.it

Quota di partecipazione

Per informazioni sulla quota di partecipazione al corso e per l’iscrizione è necessario compilare la scheda di registrazione reperibile in fondo alla descrizione del corso.
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.
Il corso prevede una quota di partecipazione di 600€

Pagamento

Il pagamento deve essere effettuato tramite bonifico bancario

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

08/11/2022 - 15/11/2022
Corso telematico con esperienza pratica in laboratorio (Milano)

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Quota di partecipazione
Per informazioni sulla quota di partecipazione al corso e per l’iscrizione è necessario compilare la scheda di registrazione reperibile in fondo alla descrizione del corso.
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.
Il corso prevede una quota di partecipazione di 600€
Leggi di più

Il pagamento deve essere effettuato tramite bonifico bancario

  

* Campi obbligatori