Finalità
La prima parte sarà un’introduzione alla tecnologia del vuoto, di una giornata. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, di due giorni circa, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su:
- Fenomeni fisici tipici di ambiente UHV (descrizione qualitativa con semplici esempi numerici)
- sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10^-8 mbar,
- gli strumenti di misura e la loro affidabilità,
- le tecniche di pulizia delle superfici
- elementi di progettazione e realizzazione di componenti compatibili con ambienti UHV
Le esercitazioni prevedono esempi numerici volti a:
- acquisire una migliore comprensione delle grandezze fisiche in gioco nel campo dell’alto e ultra alto vuoto
- un corretto utilizzo delle unità di misura

A chi è rivolto
Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione per ultra alto vuoto.

Contenuti
Teoria (2 giorni)
Introduzione alla tecnologia del Vuoto
- Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
- Regimi di Flusso, Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
- Esercitazioni
- Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe, generalità)
- Misura del grado di vuoto (generalità)
- Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto (generalità)
- Dimensionamento di massima degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown (generalità)
- Semplici esempi numerici di dimensionamento
- Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
- Ricerca delle perdite

L’ultra alto vuoto
- Generalità
- La dinamica dei gas rarefatti: Regimi di Flusso, Diffusione e Permeazione, Diffusione superficiale
- Interazione gas solido: adsorbimento e desorbimento
- Degassaggio
- Pressione limite
- Semplici Esercitazioni
- Produzione del vuoto in UHV (pompe da UHV)
- Misura della pressione in UHV
- La pulizia e il trattamento delle superfici
- Progettazione di sistemi UHV e connessioni tra gli elementi:
- Giunzioni permanenti
- Flange
- Tenute
- Valvole
- Passanti

Attività di laboratorio

Ispezione visiva di materiale UHV: pompe, flange, misuratori
Misure di degassaggio
Misure di Conduttanza
Utilizzo di Spettrometro di Massa come diagnostica e come ricerca perdite

Coordinatore del corso
Giuseppe Firpo, Università di Genova    

Prerequisiti:
Conoscenza dei principi fondamentali della tecnologia del vuoto

Finalità
I partecipanti acquisiranno il concetto di perdita in un sistema da vuoto, i fondamenti del rilevamento delle perdite e le sue applicazioni pratiche. Saranno in grado di verificare sistematicamente la tenuta dei sistemi da vuoto con gli strumenti commerciali più utilizzati e concludere se le eventuali perdite presenti possono essere compatibili con i processi realizzati all’interno dei sistemi stessi. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su: (i) sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10-8 mbar, (ii) gli strumenti di misura e la loro affidabilità, (iii) le tecniche di pulizia delle superfici.

Contenuti
Teoria (1 giorno)
Ricerca delle Perdite
•    Richiamo ai concetti di portata, velocità di pompaggio e conduttanza
•    Definizione e significato di perdita
•    Tassi di perdita ammissibili e relazioni con le dimensioni geometriche della perdita
•    Metodi di ricerca localizzazione e misura - generalità:
o    Prove in pressione
o    Prove in vuoto
•    Metodi di ricerca senza apparati dedicati
o    Test a bolle, salita della pressione, ….
•    Formulazione delle specifiche di perdita e selezione dei metodi di controllo
•    Metodi di ricerca con apparati dedicati
•    Gas tracciante, calibrazione, sintonizzazione
o    Spettrometri a settore magnetico 180° (Leak detector)
o    Spettrometri di massa a quadrupolo
o    Progettazione dispositivi e sistemi leak-free
Cenni all’Ultra Alto Vuoto
•    Richiamo su concetti di flusso molecolare e gas rarefatti
•    La produzione e la misura dell’ultra-alto vuoto
•    La pulizia e il trattamento delle superfici

Attività di laboratorio    
Illustrazione di leak detector commerciale:
o    Funzionamento
o    Specifiche e loro significato (MDS, tempo di risposta, velocità di pompaggio, ecc)
o    Flusso diretto o controflusso
o    Modalità più idonee di collegamento al sistema da testare in base alle applicazioni

Coordinatore del corso
Giuseppe Firpo, Università di Genova

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    Calibrazione, sensibilità e instabilità    Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

Plasma Deposition Technologies    Pulsed laser deposition (PLD)    Evaporazione da fasci elettronici pulsati    Chemical Vapour Deposition    Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Il corso è strutturato in due parti: la prima riguarda la parte di teoria, mentre la seconda riguarda una parte pratica di laboratorio.
Teoria (1,5 giorni)

Attività di laboratorio (0,5 giorno)
Esercitazione su impianto da vuoto
Prova di deposizione (valutare piccolo sistema PVD (evaporatore, sputtering)
Plasma Etcher
sputtering (da SEM)
E-beam evaporator
Visita ad Aziende (1 giorno)

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

Cinetica dei gas  Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    La misura della pressione    I materiali per i Sistemi da Vuoto

Il corso è strutturato in due parti: la prima riguarda la parte di teoria della durata di due giorni, mentre la seconda riguarda una parte pratica di laboratorio della durata di un giorno.
La parte di laboratorio prevederà, a seconda del luogo specifico di attivazione del corso, le seguenti attività:
- Ispezione visiva di componenti: pompe, misuratori, flange, ecc..
- Misura della velocità di pompaggio: di pompe primarie (Torino), di pompe turbomolecolari (Genova)
- Legge di Boyle
- Misure di Volumi
- Expanding Baloon
- Tensione di Vapore (straccio umido in camera da vuoto: pompando si ghiaccia)
- Utilizzo di leak detector per test di fughe calibrate

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.  
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche

Linee guida

Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni  
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni

Coordinatori dei corsi

   
Giuseppe Firpo, Università di Genova      
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

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Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento