CORSO DI TECNOLOGIA DEL VUOTO E PROCESSI DI DEPOSIZIONE DI FILM SOTTILI

Programma

Novembre, 8-9, Tecnologia del vuoto (martedì e mercoledì
Novembre, 14, Tecnologie di deposizione (lunedì)
Novembre, 15, Parte sperimentale (martedì)

Primo giorno (Tecnologia del vuoto)

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
    • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
Secondo giorno (Tecnologia del vuoto)
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti 
    • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
    • Metodi di ricerca delle perdite
Terzo giorno (Tecnologie di deposizione)
Þ Deposizione da fase vapore di tipo fisico (PHYSYCAL VAPOUR DEPOSITION - PVD)
  • Evaporazione termica 
  • Deposizione laser (Pulsed Laser Deposition - PLD)
  • Plasma sputtering
Þ Deposizione da fase vapore di tipo chimico (CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION - CVD)
  • Thermal-CVD
  • Photo assisted-CVD
  • Plasma enhanced-CVD
Nel corso saranno trattati gli aspetti generali (definizioni, cinetiche di crescita, ecc..) e comuni alle diverse tecniche di deposizione e saranno presentati esempi di processi e applicazioni.
Quarto giorno (Esercitazioni in presenza)
  • Esercitazione su impianto da vuoto
  • Prova di deposizione
  • Caratterizzazione dei rivestimenti