CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN BASSA PRESSIONE E TECNICHE PER LA CARATTERIZZAZIONE DEI FILM SOTTILI

Programma

14/11/2024 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 1 - Tecnologia del vuoto)

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
    • Esercitazioni teoriche
    • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
  • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown
15/11/2024 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
 (Programma didattico Modulo 2 - Tecnologie e processi di deposizione di film sottili)
  1. Evaporazione Termica e cenni all’IBAD 
    • Tecniche di evaporazione: tecnologia e fondamenti
    • Meccanismi di evaporazione
    • Evaporazione e tensione di vapore di equilibrio
    • Evaporazione di leghe e composti: considerazioni sulla cinetica e sui materiali
  2. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- PECVD
    • Fondamenti della tecnologia
      • Scambi di energia tra particelle
      • Dinamica delle particelle
      • Effetti collettivi di plasmi ideali
    • Impianti al plasma: configurazione e funzionamento
    • Processi al plasma
      • Relazione tra i parametri di processo e le proprietà del coating 
  3. Plasma sputtering
    • Fondamenti della deposizione sputtering
    • Impianti di sputtering: configurazione e funzionamento. 
    • Sputtering reattivo
    • Proprietà del film sottile in funzione dei parametri di sputtering
  4. Thermal-CVD, Photo assisted-CVD
    • Thermal-CVD - Schema di principio e parametri di controllo del processo
    • Trasporto delle molecole di gas
    • Trasporto di calore
    • Reazioni chimiche
    • Apparecchiature ed esempi di trattamento
    • Photon assisted CVD
    • Sistemi CVD non termici
21/11/2024 
(Programma didattico Modulo 3 - Tecnologia del vuoto - Attività di laboratorio presso Palazzo Einaudi Via Lungo P.zza D’Armi 6, 2° Piano, Chivasso (TO)
  • Ispezione visive di HW da vuoto: pompe, misuratori, flange, ecc
  • Misure di velocità di pompaggio
  • Misura di volumi e verifiche della legge di Boyle
  • Tensione di Vapore dell’Acqua
  • Leak Test
La programmazione dei tempi e il numero delle esperienze sarà gestita in modo tale da prevedere un impegno per la mattina e il pomeriggio, con pausa pranzo.

22/11/2024 
(Programma didattico Modulo 4 - Tecnologie di caratterizzazione di superficie - in modalità on-line con piattaforma Zoom )
SEM-FIB-EDX 
  1. Interazione particelle cariche-materia
  2. Scanning Electron Microscope (SEM):
    • struttura e principio di funzionamento
    • meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
  3. Focused Ion Beam (FIB):
    • struttura e principio di funzionamento
    • micro e nano fabbricazioni
  4. Energy Dispersive Systems (EDS – Microanalisi) 
    • analisi qualitativa e quantitativa di campioni in spettroscopia EDS
XPS 
  1. Principi base della fotoemissione e struttura degli spettri di fotoemissione. 
  2. Strumentazione
    • sorgente X a doppio anodo e monocromatizzata
    • sorgente UV
    • analizzatore emisferico e detectors
  3. Cenni sulla luce di sincrotrone. 
  4. Informazioni deducibili dall'analisi degli spettri di fotoemissione a raggi X e di fotoemissione a UV. 
  5. Analisi semiquantitativa dei picchi di fotoemissione.