CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN VUOTO E CARATTERIZZAZIONE

Programma

15/09/2025 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 1 - Tecnologia del vuoto)

• Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
  • Regimi di Flusso
  • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
  • Calcoli di Conduttanze
  • Equazione generale del pompaggio
  • Esercitazioni teoriche
  • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
• Misura del grado di vuoto 
• Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
• Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
  • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
  • Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown

16/09/2025 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
 (Programma didattico Modulo 2 - Tecnologie e processi di deposizione di film sottili)

1. Evaporazione Termica e cenni all’IBAD 
   • Tecniche di evaporazione: tecnologia e fondamenti
   • Meccanismi di evaporazione
   • Evaporazione e tensione di vapore di equilibrio
   • Evaporazione di leghe e composti: considerazioni sulla cinetica e sui materiali
2. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- PECVD
   • Fondamenti della tecnologia
   • Scambi di energia tra particelle
   • Dinamica delle particelle
   • Effetti collettivi di plasmi ideali
   • Impianti al plasma: configurazione e funzionamento
   • Processi al plasma
   • Relazione tra i parametri di processo e le proprietà del coating
3. Plasma sputtering
   • Fondamenti della deposizione sputtering
   • Impianti di sputtering: configurazione e funzionamento. 
   • Sputtering reattivo
   • Proprietà del film sottile in funzione dei parametri di sputtering
4. Thermal-CVD, Photo assisted-CVD
   • Thermal-CVD - Schema di principio e parametri di controllo del processo
   • Trasporto delle molecole di gas
   • Trasporto di calore
   • Reazioni chimiche
   • Apparecchiature ed esempi di trattamento
   • Photon assisted CVD
   • Sistemi CVD non termici

17/09/2025 (Programma didattico Modulo 4 - Tecnologie di caratterizzazione di superficie - in modalità on-line con piattaforma zoom)

SEM-FIB-EDX 

1. Interazione particelle cariche-materia
2. Scanning Electron Microscope (SEM):
   1. struttura e principio di funzionamento
   2. meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
3. Focused Ion Beam (FIB):
   1. struttura e principio di funzionamento
   2. micro e nano fabbricazioni
4. Energy Dispersive Systems (EDS – Microanalisi) 
   1. analisi qualitativa e quantitativa di campioni in spettroscopia EDS

XPS 

1. Principi base della fotoemissione e struttura degli spettri di fotoemissione. 
2. Strumentazione
   1. sorgente X a doppio anodo e monocromatizzata
   2. sorgente UV
   3. analizzatore emisferico e detectors
3. Cenni sulla luce di sincrotrone. 
4. Informazioni deducibili dall'analisi degli spettri di fotoemissione a raggi X e di fotoemissione a UV. 
5. Analisi semiquantitativa dei picchi di fotoemissione.

19/09/2025 (Programma didattico Modulo 3 - Tecnologia del vuoto - Attività in presenza)
Visita a due realtà industriali nell’hinterland milanese di fabbricazione e caratterizzazione di coating PVD