CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN VUOTO
Programma
Programma
17/02/2027 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 1 - Tecnologia del vuoto)
- Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
- Regimi di Flusso
- Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
- Calcoli di Conduttanze
- Equazione generale del pompaggio
- Esercitazioni teoriche
- Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
- Misura del grado di vuoto
- Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
- Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto
- Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
- Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown
18/02/2027 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 2 - Tecnologie e processi di deposizione di film sottili)
- Evaporazione Termica e cenni all’IBAD
- Tecniche di evaporazione: tecnologia e fondamenti
- Meccanismi di evaporazione
- Evaporazione e tensione di vapore di equilibrio
- Evaporazione di leghe e composti: considerazioni sulla cinetica e sui materiali
- Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- PECVD
- Fondamenti della tecnologia
- Scambi di energia tra particelle
- Dinamica delle particelle
- Effetti collettivi di plasmi ideali
- Impianti al plasma: configurazione e funzionamento
- Processi al plasma
- Relazione tra i parametri di processo e le proprietà del coating
- Plasma sputtering
- Fondamenti della deposizione sputtering
- Impianti di sputtering: configurazione e funzionamento.
- Sputtering reattivo
- Proprietà del film sottile in funzione dei parametri di sputtering
- Thermal-CVD, Photo assisted-CVD
- Thermal-CVD - Schema di principio e parametri di controllo del processo
- Trasporto delle molecole di gas
- Trasporto di calore
- Reazioni chimiche
- Apparecchiature ed esempi di trattamento
- Photon assisted CVD
- Sistemi CVD non termici
19/02/2027
Attività in laboratorio in presenza presso i laboratori di aziende del settore