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Technical and scientific specialization courses

Mass spectrometry
course

Goal

The goal of the course is to give the basic operation principles of a spectrometer and of its components. Furthermore, the course has the purpose to provide some notions related to the calibration of the instruments to optimize the interpretation of the spectra obtained during the measurements. Examples of mass spectrometric applications in academic and industrial applications are provided during the course.

Recipients

the course is addressed to the beginners of mass spectrometry

Guidelines:

Basic principles, component features and use as diagnostics
Analysis of sealed systems with mass spectrometers
Spectrometers for hydrocarbon detection
Calibration, sensitivity and instability
Industrial mass spectrometry applications

Course coordinators: 

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
Request the course 

PVD and CVD Deposition technologies course

Goal:

The AIV course on "PVD and CVD DEPOSITION TECHNOLOGIES" aims to provide participants with solid foundations on these technologies, on characterization techniques and also on a broad overview of industrial applications and their respective research perspectives.

Recipients:

The course is aimed at laboratory technicians, researchers, industrial workers or students of scientific faculties who use deposition systems or surface analysis instrumentation.

Guidelines:

Plasma Deposition Technologies
Pulsed laser deposition (PLD)
Evaporation by pulsed electronic beams
Chemical Vapor Deposition
Characterization of the surfaces of the materials

Course coordinators:

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Vacuum Technologies
Course

Goal:

The final aim of the course is to provide the participants with solid foundations that allow them to correctly use vacuum systems, and their components, whether they are used for industrial processes (e.g. thin film depositions) or for the implementation of analyzes and measurements (e.g. mass spectrometry).

Recipients:

The course is directed at laboratory technicians, researchers, industrial workers or students of scientific faculties who use systems, implants or vacuum instrumentation.

Guidelines:

Kinetics of gases
Operating principles of low and medium vacuum pumps
Ultravacuum: Degassing, absorption pumps
The molecular regimen, the high vacuum pumps
The measurement of pressure
Materials for Vacuum Systems

Course coordinators:

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Goal

The goal of the course is to give the basic operation principles of a spectrometer and of its components. Furthermore, the course has the purpose to provide some notions related to the calibration of the instruments to optimize the interpretation of the spectra obtained during the measurements. Examples of mass spectrometric applications in academic and industrial applications are provided during the course.

Recipients

the course is addressed to the beginners of mass spectrometry

Guidelines:

Basic principles, component features and use as diagnostics
Analysis of sealed systems with mass spectrometers
Spectrometers for hydrocarbon detection
Calibration, sensitivity and instability
Industrial mass spectrometry applications

Course coordinators: 

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Goal:

The AIV course on "PVD and CVD DEPOSITION TECHNOLOGIES" aims to provide participants with solid foundations on these technologies, on characterization techniques and also on a broad overview of industrial applications and their respective research perspectives.

Recipients:

The course is aimed at laboratory technicians, researchers, industrial workers or students of scientific faculties who use deposition systems or surface analysis instrumentation.

Guidelines:

Plasma Deposition Technologies
Pulsed laser deposition (PLD)
Evaporation by pulsed electronic beams
Chemical Vapor Deposition
Characterization of the surfaces of the materials

Course coordinators:

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Goal:

The final aim of the course is to provide the participants with solid foundations that allow them to correctly use vacuum systems, and their components, whether they are used for industrial processes (e.g. thin film depositions) or for the implementation of analyzes and measurements (e.g. mass spectrometry).

Recipients:

The course is directed at laboratory technicians, researchers, industrial workers or students of scientific faculties who use systems, implants or vacuum instrumentation.

Guidelines:

Kinetics of gases
Operating principles of low and medium vacuum pumps
Ultravacuum: Degassing, absorption pumps
The molecular regimen, the high vacuum pumps
The measurement of pressure
Materials for Vacuum Systems

Course coordinators:

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Upcoming courses in the program

CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD E CVD

  13/11/2019 - 14/11/2019

  Università di Genova

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Program

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori de  ll’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.  

Il programma completo è scaribabile di seguito:
corso AIV PVD-CVD.pdf

Print the program

Organized by

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinators

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

Participation fee

La quota di partecipazione è di 400 €.

Payment

La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

Thank you for requesting the course.
We will reply as soon as possible.
A copy of the request has been sent to your e-mail address

Registration form

13/11/2019 - 14/11/2019
Università di Genova

The course will be activated with a minimum number of participants.
Participation fee
La quota di partecipazione è di 400 €.
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La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

  

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CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  11/11/2019 - 12/11/2019

  Università di Genova

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Program

La conoscenza della tecnologia del vuoto è necessaria in molti campi della ricerca e sviluppo e industriali. Il corso intende essere un’introduzione alla tecnologia del vuoto, dal basso vuoto al medio e alto vuoto, con cenni all’ultra alto vuoto. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano tale tecnologia per le loro attvità. Non ha la pretesa di completezza, ma fornisce ampi riferimenti bibliografici, normativi, e di standard, per permettere, a chi intende approfondire qualche argomento, un approccio più rigoroso e scientifico.

Il programma completo del corso è disponibile a questo link.

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Organized by

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinators

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova  

Professors

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

Payment

La quota di iscrizione è di 400 €.
La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

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Registration form

11/11/2019 - 12/11/2019
Università di Genova

The course will be activated with a minimum number of participants.
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La quota di iscrizione è di 400 €.
La quota di partecipazione al corso comprende le dispense, il libro “ Introduzione alla fisica e tecnologia del vuoto” di B. Ferrario e per i non soci l’iscrizione ad AIV per l’anno in corso.  
Il corso sarà attivato con un numero minimo di n. 6 partecipanti.

  

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