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Corsi di specializzazione tecnico scientifica 

Corso di Spettrometria
di Massa

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Corso di Tecnologie
del Vuoto

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Paolo Michelato, LASA – INFN Milano    
Enrico Maccallini, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto di Fisica del Plasma CNR
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Prossimi corsi in programma

CORSO BASE TECNICHE DI ANALISI DI SUPERFICIE DEI MATERIALI

  05/10/2020 - 06/10/2020 14.00 - 18.00

  Corso telematico

Scopri il programma

Programma

caratterizzazione SEM, EDX (5 ottobre), spettroscopia di fotoemissione (XPS e UPS) (6 ottobre)

Stampa il programma

Finalità

Il corso AIV su “Corso base Tecniche di analisi di superficie dei materiali” riassume i principi di funzionamento del microscopio elettronico a scansione (SEM), della microanalisi (EDX), della spettroscopia di fotoemissione oltre ai recenti sviluppi di queste tecniche e alle loro applicazioni a film sottili e a campioni allo stato solido. L’obiettivo è fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie e inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano strumentazione di analisi di superficie.

Quota di partecipazione

Il costo del corso è di 250 euro

Pagamento

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
 FINECO BANK
 IBAN IT90K0301503200000003672954

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

05/10/2020 - 06/10/2020
Corso telematico

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Quota di partecipazione
Il costo del corso è di 250 euro
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Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
 FINECO BANK
 IBAN IT90K0301503200000003672954

  

* Campi obbligatori

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN VUOTO

  01/10/2020 - 02/10/2020 9.00 - 13.00

  Corso telematico

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Programma

Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Sputtering    
Pulsed laser deposition (PLD)    
Chemical Vapour Deposition

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Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “Tecnologie di deposizione in vuoto” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie e inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione.

Quota di partecipazione

Il costo per il corso è di 250 euro

Pagamento

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
 FINECO BANK
 IBAN IT90K0301503200000003672954

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

01/10/2020 - 02/10/2020
Corso telematico

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Quota di partecipazione
Il costo per il corso è di 250 euro
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Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
 FINECO BANK
 IBAN IT90K0301503200000003672954

  

* Campi obbligatori

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  29/09/2020 - 30/09/2020 14.00 - 18.00

  Corso telematico

Scopri il programma

Programma

Cinetica dei gas   
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
La misura della pressione    
I materiali per i Sistemi da Vuoto
Cenni alla ricerca delle perdite

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Finalità

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di pompaggio da vuoto.

Quota di partecipazione

Il costo del corso è di 250 euro

Pagamento

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
 FINECO BANK
 IBAN IT90K0301503200000003672954

Grazie per aver richiesto il corso.
Ti risponderemo il prima possibile.
Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

Modulo di iscrizione

29/09/2020 - 30/09/2020
Corso telematico

Il corso sarà attivato con un numero minimo di partecipanti.
Quota di partecipazione
Il costo del corso è di 250 euro
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Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia
 c/o FAST, P.le Morandi, 2 – 20121 Milano
 C.F 80175730151
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 IBAN IT90K0301503200000003672954

  

* Campi obbligatori