AIV - Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Corsi di specializzazione tecnico scientifica

Corso avanzato di tecnologie di vuoto - Ultra Alto Vuoto (UHV)

Finalità
La prima parte sarà un’introduzione alla tecnologia del vuoto, di una giornata. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, di due giorni circa, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su:
- Fenomeni fisici tipici di ambiente UHV (descrizione qualitativa con semplici esempi numerici)
- sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10^-8 mbar,
- gli strumenti di misura e la loro affidabilità,
- le tecniche di pulizia delle superfici
- elementi di progettazione e realizzazione di componenti compatibili con ambienti UHV
Le esercitazioni prevedono esempi numerici volti a:
- acquisire una migliore comprensione delle grandezze fisiche in gioco nel campo dell’alto e ultra alto vuoto
- un corretto utilizzo delle unità di misura

A chi è rivolto
Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione per ultra alto vuoto.

Contenuti
Teoria (2 giorni)
Introduzione alla tecnologia del Vuoto
- Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
- Regimi di Flusso, Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
- Esercitazioni
- Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe, generalità)
- Misura del grado di vuoto (generalità)
- Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto (generalità)
- Dimensionamento di massima degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown (generalità)
- Semplici esempi numerici di dimensionamento
- Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
- Ricerca delle perdite

L’ultra alto vuoto
- Generalità
- La dinamica dei gas rarefatti: Regimi di Flusso, Diffusione e Permeazione, Diffusione superficiale
- Interazione gas solido: adsorbimento e desorbimento
- Degassaggio
- Pressione limite
- Semplici Esercitazioni
- Produzione del vuoto in UHV (pompe da UHV)
- Misura della pressione in UHV
- La pulizia e il trattamento delle superfici
- Progettazione di sistemi UHV e connessioni tra gli elementi:
- Giunzioni permanenti
- Flange
- Tenute
- Valvole
- Passanti

Attività di laboratorio

Ispezione visiva di materiale UHV: pompe, flange, misuratori
Misure di degassaggio
Misure di Conduttanza
Utilizzo di Spettrometro di Massa come diagnostica e come ricerca perdite

Coordinatore del corso
Giuseppe Firpo, Università di Genova

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Corso avanzato di tecnologie del vuoto .- La ricerca delle perdite

Prerequisiti:
Conoscenza dei principi fondamentali della tecnologia del vuoto

Finalità
I partecipanti acquisiranno il concetto di perdita in un sistema da vuoto, i fondamenti del rilevamento delle perdite e le sue applicazioni pratiche. Saranno in grado di verificare sistematicamente la tenuta dei sistemi da vuoto con gli strumenti commerciali più utilizzati e concludere se le eventuali perdite presenti possono essere compatibili con i processi realizzati all’interno dei sistemi stessi. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su: (i) sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10-8 mbar, (ii) gli strumenti di misura e la loro affidabilità, (iii) le tecniche di pulizia delle superfici.

Contenuti
Teoria (1 giorno)
Ricerca delle Perdite
• Richiamo ai concetti di portata, velocità di pompaggio e conduttanza
• Definizione e significato di perdita
• Tassi di perdita ammissibili e relazioni con le dimensioni geometriche della perdita
• Metodi di ricerca localizzazione e misura - generalità:
o Prove in pressione
o Prove in vuoto
• Metodi di ricerca senza apparati dedicati
o Test a bolle, salita della pressione, ….
• Formulazione delle specifiche di perdita e selezione dei metodi di controllo
• Metodi di ricerca con apparati dedicati
• Gas tracciante, calibrazione, sintonizzazione
o Spettrometri a settore magnetico 180° (Leak detector)
o Spettrometri di massa a quadrupolo
o Progettazione dispositivi e sistemi leak-free
Cenni all’Ultra Alto Vuoto
• Richiamo su concetti di flusso molecolare e gas rarefatti
• La produzione e la misura dell’ultra-alto vuoto
• La pulizia e il trattamento delle superfici

Attività di laboratorio
Illustrazione di leak detector commerciale:
o Funzionamento
o Specifiche e loro significato (MDS, tempo di risposta, velocità di pompaggio, ecc)
o Flusso diretto o controflusso
o Modalità più idonee di collegamento al sistema da testare in base alle applicazioni

Coordinatore del corso
Giuseppe Firpo, Università di Genova

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Corso di Spettrometria
di Massa

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica

Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa

Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi

Calibrazione, sensibilità e instabilità

Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

Plasma Deposition Technologies

Pulsed laser deposition (PLD)

Evaporazione da fasci elettronici pulsati

Chemical Vapour Deposition

Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Il corso è strutturato in due parti: la prima riguarda la parte di teoria, mentre la seconda riguarda una parte pratica di laboratorio.
Teoria (1,5 giorni)

Attività di laboratorio (0,5 giorno)
Esercitazione su impianto da vuoto
Prova di deposizione (valutare piccolo sistema PVD (evaporatore, sputtering)
Plasma Etcher
sputtering (da SEM)
E-beam evaporator
Visita ad Aziende (1 giorno)

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Corso di Tecnologie
del Vuoto

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

Cinetica dei gas

Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto

L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento

Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto

La misura della pressione

I materiali per i Sistemi da Vuoto

Il corso è strutturato in due parti: la prima riguarda la parte di teoria della durata di due giorni, mentre la seconda riguarda una parte pratica di laboratorio della durata di un giorno.
La parte di laboratorio prevederà, a seconda del luogo specifico di attivazione del corso, le seguenti attività:
- Ispezione visiva di componenti: pompe, misuratori, flange, ecc..
- Misura della velocità di pompaggio: di pompe primarie (Torino), di pompe turbomolecolari (Genova)
- Legge di Boyle
- Misure di Volumi
- Expanding Baloon
- Tensione di Vapore (straccio umido in camera da vuoto: pompando si ghiaccia)
- Utilizzo di leak detector per test di fughe calibrate

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Corso di Microscopia particellare, elettronica e ionica, e Microanalisi

Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche

Linee guida

Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Corso di Spettroscopia Fotoelettronica a raggi X (XPS)

Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento

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Finalità del corso

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica

Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa

Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi

Calibrazione, sensibilità e instabilità

Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Finalità del corso

A chi è rivolto

Linee guida

Plasma Deposition Technologies

Pulsed laser deposition (PLD)

Evaporazione da fasci elettronici pulsati

Chemical Vapour Deposition

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Finalità del corso

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

Cinetica dei gas

Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto

L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento

Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto

La misura della pressione

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Finalità del corso

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche

Linee guida

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR

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Finalità del corso

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento

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CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN VUOTO

16/09/2026 - 18/09/2026

Blended: online e in presenza

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Programma

16/09/2026 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 1 - Tecnologia del vuoto)

Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
- Regimi di Flusso
- Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
- Calcoli di Conduttanze
- Equazione generale del pompaggio
- Esercitazioni teoriche
- Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
Misura del grado di vuoto
Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto
- Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
- Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown

17/09/2026 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 2 - Tecnologie e processi di deposizione di film sottili)

Evaporazione Termica e cenni all’IBAD
- Tecniche di evaporazione: tecnologia e fondamenti
- Meccanismi di evaporazione
- Evaporazione e tensione di vapore di equilibrio
- Evaporazione di leghe e composti: considerazioni sulla cinetica e sui materiali
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- PECVD
- Fondamenti della tecnologia
- Scambi di energia tra particelle
- Dinamica delle particelle
- Effetti collettivi di plasmi ideali
- Impianti al plasma: configurazione e funzionamento
- Processi al plasma
- Relazione tra i parametri di processo e le proprietà del coating
Plasma sputtering
- Fondamenti della deposizione sputtering
- Impianti di sputtering: configurazione e funzionamento.
- Sputtering reattivo
- Proprietà del film sottile in funzione dei parametri di sputtering
Thermal-CVD, Photo assisted-CVD
- Thermal-CVD - Schema di principio e parametri di controllo del processo
- Trasporto delle molecole di gas
- Trasporto di calore
- Reazioni chimiche
- Apparecchiature ed esempi di trattamento
- Photon assisted CVD
- Sistemi CVD non termici

18/09/2026
Attività in laboratorio in presenza presso i laboratori di aziende del settore

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Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali a una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili (strato di materiale di spessore di decine o centinaia di nanometri) in condizioni di bassa pressione. Ci sono diversi motivi per rivestire con un film sottile la superficie di un materiale. Alcuni esempi includono:

Rivestimenti per prevenire la corrosione
Strati decorativi su gioielli e prodotti per cosmetica
Rivestimenti per interni ed esterni nell’automotive
Rivestimenti per incrementare le prestazioni e la durata di utensili
Rivestimenti per migliorare le proprietà ottiche delle lenti oftalmiche
Rivestimenti per la produzione di semiconduttori, celle solari o Touch-panel
Rivestimenti di specchi di lampade a riflettore
Rivestimenti su substrati polimerici per la conservazione della freschezza dei materiali alimentari
Rivestimenti per l’isolamento termico

Questo elenco non è esaustivo e nuove applicazioni emergono continuamente. Le proprietà funzionali del film depositato dipendono fortemente dalle proprietà fisiche, chimiche e strutturali del film, che a loro volta dipendono dalle dinamiche con cui avviene il processo di deposizione. Le tecnologie per la deposizione di film sottili sono molteplici e consistono in processi differenti, in generale si possono considerare tre fasi: la generazione dei precursori per la deposizione, il trasporto e l’adesione (condensazione) del materiale al substrato. Le tecnologie per la deposizione di film sottili possono essere suddivise in due categorie: Physical Vapour Deposition (PVD) e Chemical Vapour Deposition (CVD). Nella PVD il materiale da depositare (vapore atomico o “ionico”) può essere prodotto per evaporazione (il materiale da depositare viene scaldato e fatto sublimare) o per sputtering (mediante la generazione di un plasma si producono ioni che sono accelerati verso un target, il bombardamento ionico estrae atomi portandoli in stato vapore). Nelle tecniche CVD si crescono film sottili sfruttando una reazione chimica che viene indotta in fase gassosa e in prossimità della superficie del substrato (decomposizione del precursore mediante riscaldamento del substrato). Sia per la PVD sia per la maggior parte delle applicazioni CVD, la tecnologia del vuoto gioca un ruolo essenziale. La progettazione, la conduzione e la manutenzione degli impianti industriali dedicati alla produzione di film sottili richiedono elevate competenze in tale tecnologia. L’esperienza e la formazione teorica sono elementi imprescindibili che l’azienda deve possedere per operare in questo campo. Questa necessità è altrettanto importante nei centri di ricerca dove questi processi vengono analizzati per trovare soluzioni sempre più innovative e performanti. Concetti quali tensione di vapore, libero cammino medio, velocità di pompaggio, tempi di svuotamento, spettri di gas residuo, adsorbimento e desorbimento, sono solo alcune grandezze di cui si deve avere chiaro il significato profondo e non una semplice conoscenza superficiale. Purtroppo, è frequente imbattersi nelle seguenti problematiche:

Realizzazione di impianti mal dimensionati
Lunghi tempi di svuotamento, inaccettabili se confrontati con i tempi di produzione
Rivestimenti contaminati da idrocarburi e quindi di bassa qualità
Produzione di coating con insufficiente adesione al substrato e conseguente delaminazione del rivestimento
Utilizzo di materiali non compatibili con le condizioni di vuoto necessario per lo specifico processo
Utilizzo di parametri di lavoro identici per diverse tecnologie e/o diversi rivestimenti (ogni diverso processo richiede diverse procedure e impianti)

Tutte le questioni citate sono fondamentali a livello industriale, dove le perdite di prodotto e l’aumento dei costi possono compromettere la sostenibilità economica e la permanenza nel mercato di una azienda. Molte problematiche hanno però inevitabili conseguenze anche nel campo della ricerca, dove c’è il rischio di una errata interpretazione dei fenomeni con conseguente errata interpretazione dei risultati. Questo corso prevede un’introduzione ai concetti e alle applicazioni di base della tecnologia del vuoto con focalizzazione su metodi di produzione, misurazione del vuoto e progettazione di sistemi da vuoto, oltre a cenni sulla risoluzione dei problemi e alla manutenzione dei sistemi. Particolare attenzione sarà dedicata alla discussione di quelle grandezze spesso utilizzate in modo improprio a causa di una conoscenza non adeguata della tecnologia. Questi contenuti saranno affrontanti tenendo presente che il corso ha un suo naturale seguito con la tecnologia di produzione di film sottili. In questa seconda parte saranno illustrate le basi teoriche delle tecnologie PVD e CVDevidenziando gli aspetti tecnologici e le peculiarità di tali tecniche, in modo da rendere consapevole il partecipante su quale di esse è preferibile in base alle applicazioni, ai materiali, ecc.

Il corso sarà attivato con un minimo di sei partecipanti.

Segreteria organizzativa

segreteria@aiv.it

Quota di partecipazione

600 €

Pagamento

The fee will be paid:
Bank transfer to A.I.V. - Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia,
C.F 801 75730151, based in Milano - 20121, c/o FAST – P.le Morandi, 2
Banking: Fineco Bank
IBAN: IT90K0301503200000003672954

Corsi di specializzazione tecnico scientifica

Corso avanzato di tecnologie di vuoto - Ultra Alto Vuoto (UHV)

Corso avanzato di tecnologie del vuoto .- La ricerca delle perdite

Corso di Spettrometria di Massa

Finalità del corso

A chi è rivolto

Linee guida

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Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

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Corso di Tecnologie del Vuoto

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Corso di Microscopia particellare, elettronica e ionica, e Microanalisi

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Corso di Spettroscopia Fotoelettronica a raggi X (XPS)

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Prossimi corsi in programma

CORSO DI SPETTROMETRIA DI MASSA

30/09/2026 - 02/10/2026

Blended: Online e presso laboratorio a Lainate (MI)

Programma

Organizzato da

Finalità

Coordinatori

Segreteria organizzativa

Quota di partecipazione

Pagamento

Grazie per aver richiesto il corso. Ti risponderemo il prima possibile. Una copia della richiesta è stata inviata alla mail da te indicata.

CORSO DI TECNICHE DI CARATTERIZZAZIONE MATERIALI E FILM SOTTILI MODULO 2: SPETTROSCOPIA VIBRAZIONALE E FOTOELETTRONICA (XPS -FTIR - RAMAN)

23/09/2026 - 25/09/2026 Primo e secondo giorno del corso online, terzo giorno in presenza a Genova

Blended: online e in presenza

Programma

Finalità

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Quota di partecipazione

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CORSO DI TECNICHE DI CARATTERIZZAZIONE MATERIALI E FILM SOTTILI MODULO 1: MICROSCOPIA PARTICELLARE (SEM FIB) E MICROANALISI (EDS)

21/09/2026 - 22/09/2026

Blended: online e in presenza (Genova)

Programma

Organizzato da

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Corso di Spettrometria
di Massa

Corso di Tecnologie
del Vuoto

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