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Corsi di specializzazione tecnico scientifica 

Corso di Spettrometria
di Massa

Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD

Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Corso di Tecnologie
del Vuoto

Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Corso di Microscopia particellare, elettronica e ionica, e Microanalisi


Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.  
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.


A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche


Linee guida

 
Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni  
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni


Coordinatori dei corsi

   
Giuseppe Firpo, Università di Genova      
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
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Corso di Spettroscopia Fotoelettronica a raggi X (XPS)


Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

 
...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento


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Finalità del corso

Il corso si prefigge di fornire i principi di base del funzionamento di uno spettrometro e dei suoi componenti. Il corso, inoltre, ha lo scopo di fornire delle nozioni relative alla calibrazione degli strumenti per ottimizzare l’interpretazione degli spettri ottenuti durante le misurazioni. Durante il corso vengono forniti esempi di applicazioni della spettrometria di massa in applicazioni accademiche e industriali.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti della spettrometria di massa.

Linee guida

 
Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica    
 
Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa    
 
Utilizzo spettrometri per individuazione idrocarburi    
 
Calibrazione, sensibilità e instabilità    
 
Applicazioni industriali di spettrometria di massa

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Finalità del corso

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Linee guida

 
Plasma Deposition Technologies    
 
Pulsed laser deposition (PLD)    
 
Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
 
Chemical Vapour Deposition    
 
Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Finalità del corso

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi, impianti o strumentazione da vuoto.

Linee guida

 
Cinetica dei gas  
 
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto    
 
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
 
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
 
La misura della pressione    
 
I materiali per i Sistemi da Vuoto

Coordinatori dei corsi

Giuseppe Firpo, Università di Genova    
Michele Mura, SAES GETTERS S.p.A    
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR 
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Finalità del corso

La microscopia elettronica a scansione (SEM) consente l’osservazione e la caratterizzazione di materiali organici e inorganici su scala micro e nanometrica. Il microscopio elettronico può essere usato anche per ottenere informazioni composizionali, qualitative e quantitative, utilizzando i raggi X prodotti dagli elettroni nel materiale (microanalisi). Infine, la microscopia ionica (FIB), oltre a produrre immagini con meccanismi di contrasto non facilmente ottenibili con gli elettroni, permette la lavorazione di qualsiasi materiale su scala micro e nanometrica.  
E’ evidente come queste tematiche assumano un ruolo determinante nel campo delle micro e nanotecnologie, in ampi settori della ricerca quali la scienza dei materiali, la fisica, la chimica, la biologia, e la medicina.
Il corso intende fornire un’introduzione alla microscopia particellare e alla microanalisi. Nonostante non abbia pretese di completezza, l’obiettivo che traguarda è duplice: per chi non ha esperienza nel campo ma potrebbe in futuro essere coinvolto in queste attività, si prefigge di illustrare la tematica in modo chiaro, tale da garantire la piena consapevolezza delle conoscenze e abilità necessarie; per chi già utilizza microscopi elettronici intende provvedere ad un’illustrazione teorica dei principi di funzionamento necessari per affrontare problematiche non comuni, illustrate anche con appositi esempi.


A chi è rivolto

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche


Linee guida

 
Introduzione alla teoria dell'immagine
Interazione particelle cariche-materia
SEM
- Struttura
- principio di funzionamento
- meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
- strumentazioni per la preparazione dei campioni  
EDS
- analisi qualitativa e quantitativa di campioni inorganici in spettroscopia EDS
FIB
- struttura, immagini, micro e nano lavorazioni


Coordinatori dei corsi

   
Giuseppe Firpo, Università di Genova      
Espedito Vassallo, Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
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Finalità del corso

Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

A chi è rivolto

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS)

Linee guida

 
...

Coordinatori dei corsi

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento


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