DIVENTA SOCIO AIV > > >

Archivio corsi

CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN BASSA PRESSIONE E TECNICHE PER LA CARATTERIZZAZIONE DEI FILM SOTTILI

  14/11/2024 - 22/11/2024

  Online/Chivasso (TO)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

14/11/2024 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
(Programma didattico Modulo 1 - Tecnologia del vuoto)

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
    • Esercitazioni teoriche
    • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
  • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown
15/11/2024 (in modalità on-line con piattaforma zoom)
 (Programma didattico Modulo 2 - Tecnologie e processi di deposizione di film sottili)
  1. Evaporazione Termica e cenni all’IBAD 
    • Tecniche di evaporazione: tecnologia e fondamenti
    • Meccanismi di evaporazione
    • Evaporazione e tensione di vapore di equilibrio
    • Evaporazione di leghe e composti: considerazioni sulla cinetica e sui materiali
  2. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- PECVD
    • Fondamenti della tecnologia
      • Scambi di energia tra particelle
      • Dinamica delle particelle
      • Effetti collettivi di plasmi ideali
    • Impianti al plasma: configurazione e funzionamento
    • Processi al plasma
      • Relazione tra i parametri di processo e le proprietà del coating 
  3. Plasma sputtering
    • Fondamenti della deposizione sputtering
    • Impianti di sputtering: configurazione e funzionamento. 
    • Sputtering reattivo
    • Proprietà del film sottile in funzione dei parametri di sputtering
  4. Thermal-CVD, Photo assisted-CVD
    • Thermal-CVD - Schema di principio e parametri di controllo del processo
    • Trasporto delle molecole di gas
    • Trasporto di calore
    • Reazioni chimiche
    • Apparecchiature ed esempi di trattamento
    • Photon assisted CVD
    • Sistemi CVD non termici
21/11/2024 
(Programma didattico Modulo 3 - Tecnologia del vuoto - Attività di laboratorio presso Palazzo Einaudi Via Lungo P.zza D’Armi 6, 2° Piano, Chivasso (TO)
  • Ispezione visive di HW da vuoto: pompe, misuratori, flange, ecc
  • Misure di velocità di pompaggio
  • Misura di volumi e verifiche della legge di Boyle
  • Tensione di Vapore dell’Acqua
  • Leak Test
La programmazione dei tempi e il numero delle esperienze sarà gestita in modo tale da prevedere un impegno per la mattina e il pomeriggio, con pausa pranzo.

22/11/2024 (Programma didattico Modulo 4 - Tecnologie di caratterizzazione di superficie - in modalità on-line con piattaforma Zoom )
SEM-FIB-EDX 
  1. Interazione particelle cariche-materia
  2. Scanning Electron Microscope (SEM):
    • struttura e principio di funzionamento
    • meccanismi di formazione delle immagini, contrasto, interpretazione
  3. Focused Ion Beam (FIB):
    • struttura e principio di funzionamento
    • micro e nano fabbricazioni
  4. Energy Dispersive Systems (EDS – Microanalisi) 
    • analisi qualitativa e quantitativa di campioni in spettroscopia EDS
XPS 
  1. Principi base della fotoemissione e struttura degli spettri di fotoemissione. 
  2. Strumentazione
    • sorgente X a doppio anodo e monocromatizzata
    • sorgente UV
    • analizzatore emisferico e detectors
  3. Cenni sulla luce di sincrotrone. 
  4. Informazioni deducibili dall'analisi degli spettri di fotoemissione a raggi X e di fotoemissione a UV. 
  5. Analisi semiquantitativa dei picchi di fotoemissione.

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia (AIV)

Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali a una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili (strato di materiale di spessore di decine o centinaia di nanometri) in condizioni di bassa pressione. Ci sono diversi motivi per rivestire con un film sottile la superficie di un materiale. Alcuni esempi includono:

  • Rivestimenti per prevenire la corrosione 
  • Strati decorativi su gioielli e prodotti per cosmetica
  • Rivestimenti per interni ed esterni nell’automotive
  • Rivestimenti per incrementare le prestazioni e la durata di utensili 
  • Rivestimenti per migliorare le proprietà ottiche delle lenti oftalmiche 
  • Rivestimenti per la produzione di semiconduttori, celle solari o Touch-panel
  • Rivestimenti di specchi di lampade a riflettore
  • Rivestimenti su substrati polimerici per la conservazione della freschezza dei materiali alimentari
  • Rivestimenti per l’isolamento termico
Questo elenco non è esaustivo e nuove applicazioni emergono continuamente. Le proprietà funzionali del film depositato dipendono fortemente dalle proprietà fisiche, chimiche e strutturali del film, che a loro volta dipendono dalle dinamiche con cui avviene il processo di deposizione. Le tecnologie per la deposizione di film sottili sono molteplici e consistono in processi differenti, in generale si possono considerare tre fasi: la generazione dei precursori per la deposizione, il trasporto e l’adesione (condensazione) del materiale al substrato. Le tecnologie per la deposizione di film sottili possono essere suddivise in due categorie: Physical Vapour Deposition (PVD) e Chemical Vapour Deposition (CVD). Nella PVD il materiale da depositare (vapore atomico o “ionico”) può essere prodotto per evaporazione (il materiale da depositare viene scaldato e fatto sublimare) o per sputtering (mediante la generazione di un plasma si producono ioni che sono accelerati verso un target, il bombardamento ionico estrae atomi portandoli in stato vapore). Nelle tecniche CVD si crescono film sottili sfruttando una reazione chimica che viene indotta in fase gassosa e in prossimità della superficie del substrato (decomposizione del precursore mediante riscaldamento del substrato). Sia per la PVD sia per la maggior parte delle applicazioni CVD, la tecnologia del vuoto gioca un ruolo essenziale. La progettazione, la conduzione e la manutenzione degli impianti industriali dedicati alla produzione di film sottili richiedono elevate competenze in tale tecnologia. L’esperienza e la formazione teorica sono elementi imprescindibili che l’azienda deve possedere per operare in questo campo. Questa necessità è altrettanto importante nei centri di ricerca dove questi processi vengono analizzati per trovare soluzioni sempre più innovative e performanti.  Concetti quali tensione di vapore, libero cammino medio, velocità di pompaggio, tempi di svuotamento, spettri di gas residuo, adsorbimento e desorbimento, sono solo alcune grandezze di cui si deve avere chiaro il significato profondo e non una semplice conoscenza superficiale. Purtroppo, è frequente imbattersi nelle seguenti problematiche:
  • Realizzazione di impianti mal dimensionati
  • Lunghi tempi di svuotamento, inaccettabili se confrontati con i tempi di produzione
  • Rivestimenti contaminati da idrocarburi e quindi di bassa qualità
  • Produzione di coating con insufficiente adesione al substrato e conseguente delaminazione del rivestimento
  • Utilizzo di materiali non compatibili con le condizioni di vuoto necessario per lo specifico processo
  • Utilizzo di parametri di lavoro identici per diverse tecnologie e/o diversi rivestimenti (ogni diverso processo richiede diverse procedure e impianti)
Tutte le questioni citate sono fondamentali a livello industriale, dove le perdite di prodotto e l’aumento dei costi possono compromettere la sostenibilità economica e la permanenza nel mercato di una azienda. Molte problematiche hanno però inevitabili conseguenze anche nel campo della ricerca, dove c’è il rischio di una errata interpretazione dei fenomeni con conseguente errata interpretazione dei risultati. Questo corso prevede un’introduzione ai concetti e alle applicazioni di base della tecnologia del vuoto con focalizzazione su metodi di produzione, misurazione del vuoto e progettazione di sistemi da vuoto, oltre a cenni sulla risoluzione dei problemi e alla manutenzione dei sistemi. Particolare attenzione sarà dedicata alla discussione di quelle grandezze spesso utilizzate in modo improprio a causa di una conoscenza non adeguata della tecnologia. Questi contenuti saranno affrontanti tenendo presente che il corso ha un suo naturale seguito con la tecnologia di produzione di film sottili. In questa seconda parte saranno illustrate le basi teoriche delle tecnologie PVD e CVDevidenziando gli aspetti tecnologici e le peculiarità di tali tecniche, in modo da rendere consapevole il partecipante su quale di esse è preferibile in base alle applicazioni, ai materiali, ecc.
Nella parte finale del corso saranno presentate alcune tecniche di analisi di superficie dei materiali. L’obiettivo è fornire ai partecipanti solide basi su microscopio elettronico a scansione (SEM) con microanalisi (EDX) e spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS).

Docenti

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova
Giorgio Speranza - Fondazione Bruno Kessler Trento
Alberto Tagliaferro - Politecnico di Torino

Matteo Barelli - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Segreteria organizzativa

Angela Riggio, segreteria@aiv.it.

CORSO DI TECNOLOGIA DEL VUOTO

  15/05/2024 - 17/05/2024 Palazzo Einaudi Via Lungo P.zza D’Armi 6, 2° Piano

  Chivasso (TO)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il corso prevede due giornate in aula e una in laboratorio. Su richiesta, le due giornate di teoria potranno essere erogate anche a distanza via zoom.
Primo giorno
(9:00 – 13:00 con pausa) 

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
(14:00-18:00 con pausa)
  • Esercitazioni teoriche
  • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
Secondo giorno
(9:00 – 13:00 con pausa)
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
  • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti, vuoto limite e tempi di pumpdown
(14:00-18:00 con pausa)
  • Esercitazioni teoriche
  • Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
  • Ricerca delle perdite

 Terzo giorno (Attività di laboratorio)
  • Ispezione visive di HW da vuoto: pompe, misuratori, flange, ecc
  • Misure di velocità di pompaggio
  • Misura di volumi e verifiche della legge di Boyle
  • Tensione di Vapore dell’Acqua
  • Leak Test
La programmazione dei tempi e il numero delle esperienze sarà gestita in modo tale da prevedere un impegno per la mattina e il pomeriggio, con pausa pranzo


Testi di riferimento
  • B. Ferrario “Introduzione alla tecnologia del vuoto” seconda edizione, Patron Editore (testo che sarà consegnato ad ogni partecipante)
  • Slides del corso che sono basate sulla seguente letteratura:
  • B. Ferrario “Introduzione alla tecnologia del vuoto” seconda edizione, Patron Editore
  • O’Hanlon “A User’s Guide to Vacuum Technology” second edition, Wiley
  • M.H. Hablanian “High Vacuum Technology” second edition, Marcel Dekker, Inc.
  • P.A. Redhead, J. P. Hobsono, E. V. Kornelsen “The Physical basis of Ultrahigh Vacuum” AVS Classic
  • A. Roth “Vacuum Technology”  third edition, North Holland
  • J. M. Lafferty “Foundations of Vacuum Science and Technology” Wiley-Interscience
  • K. Welch “Capture Pumping Technology” second edition, K. Welch editore, North Holland
  • A Chambers, R K . Fitch, B S Halliday, “Basic Vacuum Technology” IOP Publishing
  • W. Khol “Handbook of Materials and Techniques for Vacuum Devices” AVS Classic
  • “Handbook of Vacuum Technology” K. Jousten editore, Wiley-VCH

Durante il corso sono state tenute le seguenti prove pratiche:
  • Visual inspection
  • Expanding baloon
  • Acqua in vuoto in condizioni di non equilibrio
  • Misura di volumi tramite la legge di Boyle
  • Misura di velocità di pompaggio pompa rotativa
  • Misura di velocità di pompaggio turbo molecolare (bassa e alta conduttanza)
  • Installazione pompa NEG e attivazione
  • Misura di velocità di pompaggio NEG
  • Misura di diminuzione di velocità di pompaggio NEG
  • Libero cammino medio e conduttanze
  • Leak test con elio

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia (AIV)

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Docenti

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Segreteria organizzativa

Per info contattare: segreteria@aiv.it

CORSO DI TECNOLOGIA DEL VUOTO E PROCESSI DI DEPOSIZIONE DI FILM SOTTILI

  06/03/2023 - 14/03/2023

   Corso telematico con esperienza pratica in laboratorio (Milano)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il corso si terrà a marzo durante i seguenti giorni
(6-7 marzo) Primo e secondo giorno: Tecnologia del vuoto
(13 marzo) Terzo giorno: Tecnologie di deposizione
(14 marzo) Quarto giorno: Parte sperimentale

Primo giorno (Tecnologia del vuoto)

  • Definizioni, Proprietà dei Gas e Teoria Cinetica
    • Regimi di Flusso
    • Portata, Conduttanza, Velocità di Pompaggio
    • Calcoli di Conduttanze
    • Equazione generale del pompaggio
    • Produzione del Vuoto (Componenti e classificazione delle pompe)
  • Misura del grado di vuoto 
Secondo giorno (Tecnologia del vuoto)
  • Ionizzazione nei gas e fenomeni di interazione gas-solido
    • Soluzioni particolari dell’equazione del pompaggio
    • Dimensionamento degli impianti 
    • Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    • Ermeticità: fughe reali e virtuali, metodi di diagnosi
    • Metodi di ricerca delle perdite
Terzo giorno (Tecnologie di deposizione)
Þ Deposizione da fase vapore di tipo fisico (PHYSYCAL VAPOUR DEPOSITION - PVD)
  • Evaporazione termica 
  • Deposizione laser (Pulsed Laser Deposition - PLD)
  • Plasma sputtering
Þ Deposizione da fase vapore di tipo chimico (CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION - CVD)
  • Thermal-CVD
  • Photo assisted-CVD
  • Plasma enhanced-CVD
Nel corso saranno trattati gli aspetti generali (definizioni, cinetiche di crescita, ecc..) e comuni alle diverse tecniche di deposizione e saranno presentati esempi di processi e applicazioni.
Quarto giorno (Esercitazioni in presenza)
  • Esercitazione su impianto da vuoto
  • Prova di deposizione
  • Caratterizzazione dei rivestimenti
Programma giornata 14 marzo
10.00 – 12.00: Visita ditta Gambetti Kenologia Srl (Via Alessandro Volta, 27, 20082 Binasco MI)
12.00 – 14.00: Pranzo
14.00 – 16.00: Visita ditta Kenosistec Srl (Via delle Scienze, 23, 20082 Binasco MI)
Il punto di ritrovo per chi arriva in macchina è direttamente presso la società Gambetti, mentre per chi arriva in metro il ritrovo è alla fermata “Assago Milanofiori Forum” della linea M2 verde per le ore 9.30. Ci saranno due auto per il trasporto.

Stampa il programma

Organizzato da

Il corso si terrà in quattro giorni dal 6 al 14 marzo

Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali a una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili (strato di materiale di spessore di decine o centinaia di nanometri) in condizioni di bassa pressione. Ci sono diversi motivi per rivestire con un film sottile la superficie di un materiale. 
Alcuni esempi includono:

  • Rivestimenti per prevenire la corrosione 
  • Strati decorativi su gioielli e prodotti per cosmetica
  • Rivestimenti per interni ed esterni nell’automotive
  • Rivestimenti per incrementare le prestazioni e la durata di utensili 
  • Rivestimenti per migliorare le proprietà ottiche delle lenti oftalmiche 
  • Rivestimenti per la produzione di semiconduttori, celle solari o Touch-panel
  • Rivestimenti di specchi di lampade a riflettore
  • Rivestimenti su substrati polimerici per la conservazione della freschezza dei materiali alimentari
  • Rivestimenti per l’isolamento termico
Questo elenco non è esaustivo e nuove applicazioni emergono continuamente.
Le proprietà funzionali del film depositato dipendono fortemente dalle proprietà fisiche, chimiche e strutturali del film, che a loro volta dipendono dalle dinamiche con cui avviene il processo di deposizione.
Le tecnologie per la deposizione di film sottili sono molteplici e consistono in processi differenti, in generale si possono considerare tre fasi: la generazione dei precursori per la deposizione, il trasporto e l’adesione (condensazione) del materiale al substrato. Le tecnologie per la deposizione di film sottili possono essere suddivise in due categorie: Physical Vapour Deposition (PVD) e Chemical Vapour Deposition (CVD). Nella PVD il materiale da depositare (vapore atomico o “ionico”) può essere prodotto per evaporazione (il materiale da depositare viene scaldato e fatto sublimare), per sputtering (mediante la generazione di un plasma si producono ioni che sono accelerati verso un target, il bombardamento ionico estrae atomi portandoli in stato vapore), per Pulsed Laser Deposition (gli atomi in stato vapore sono generati dall’interazione laser-target che produce un plasma a forma di piuma). Nelle tecniche CVD si crescono film sottili sfruttando una reazione chimica che viene indotta in fase gassosa e in prossimità della superficie del substrato (decomposizione del precursore mediante riscaldamento del substrato).
Sia per la PVD sia per la maggior parte delle applicazioni CVD, la tecnologia del vuoto gioca un ruolo essenziale. La progettazione, la conduzione e la manutenzione degli impianti industriali dedicati alla produzione di film sottili richiedono elevate competenze in tale tecnologia. L’esperienza e la formazione teorica sono elementi imprescindibili che l’azienda deve possedere per operare in questo campo. Questa necessità è altrettanto importante nei centri di ricerca dove questi processi vengono analizzati per trovare soluzioni sempre più innovative e performanti. 
Concetti quali tensione di vapore, libero cammino medio, velocità di pompaggio, tempi di svuotamento, spettri di gas residuo, adsorbimento e desorbimento, sono solo alcune grandezze di cui si deve avere chiaro il significato profondo e non una semplice conoscenza superficiale. Purtroppo, è frequente imbattersi nelle seguenti problematiche:
  • Realizzazione di impianti mal dimensionati
  • Lunghi tempi di svuotamento, inaccettabili se confrontati con i tempi di produzione
  • Rivestimenti contaminati da idrocarburi e quindi di bassa qualità
  • Produzione di coating con insufficiente adesione al substrato e conseguente delaminazione del rivestimento
  • Utilizzo di materiali non compatibili con le condizioni di vuoto necessario per lo specifico processo
  • Utilizzo di parametri di lavoro identici per diverse tecnologie e/o diversi rivestimenti (ogni diverso processo richiede diverse procedure e impianti)
Tutte le questioni citate sono fondamentali a livello industriale, dove le perdite di prodotto e l’aumento dei costi possono compromettere la sostenibilità economica e la permanenza nel mercato di una azienda. Molte problematiche hanno però inevitabili conseguenze anche nel campo della ricerca, dove c’è il rischio di una errata interpretazione dei fenomeni con conseguente errata interpretazione dei risultati.

Questo corso prevede un’introduzione ai concetti e alle applicazioni di base della tecnologia del vuoto con focalizzazione su metodi di produzione, misurazione del vuoto e progettazione di sistemi da vuoto, oltre a cenni sulla risoluzione dei problemi e alla manutenzione dei sistemi. Particolare attenzione sarà dedicata alla discussione di quelle grandezze spesso utilizzate in modo improprio a causa di una conoscenza non adeguata della tecnologia. Questi contenuti saranno affrontanti tenendo presente che il corso ha un suo naturale seguito con la tecnologia di produzione di film sottili. In questa seconda parte saranno illustrate le basi teoriche delle tecnologie PVD e CVD evidenziando gli aspetti tecnologici e le peculiarità di tali tecniche, in modo da rendere consapevole il partecipante su quale di esse è preferibile in base alle applicazioni, ai materiali, ecc.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Segreteria organizzativa

Per info contattare: segreteria@aiv.it

CORSO DI SPETTROSCOPIA FOTOELETTRONICA A RAGGI X (XPS)

  09/11/2021 - 10/11/2021

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

9 Novembre 2021

10:00-11:15: X-ray photoelectron spectroscopy (XPS): Fondamenti della tecnica XPS
11:15-11:30: Coffee break
11:30-12:30: Righe di core: interpretazioni ed esempi
• 10 Novembre 2021
10:00 -11:15: Angle Resolved XPS, Bande di valenza e spettri Auger
11:15-11:30: Coffee break
11:30-13:00: Guida all’utilizzo di RxpsG per l’analisi spettrale

Il programma in formato pdf è disponibile al seguente link.

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia (AIV)

Finalità

Il corso è rivolto a principianti e utilizzatori della spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS). Il corso introduce i principi basilari della tecnica della spettroscopia fotoelettronica, in particolare l’interpretazione degli spettri e l’informazione chimica associata. Il corso si rivolge a coloro che desiderano conoscere e approfondire le potenzialità della tecnica XPS. Il corso comprende una descrizione sintetica della strumentazione e dell’utilizzo delle sue parti necessarie all’acquisizione spettrale nelle diverse modalità. Il corso comprende anche una parte pratica dedicata alla deconvoluzione e interpretazione spettrale con software dedicato che sarà fornito gratuitamente.

Docenti

Dr. Giorgio Speranza FBK - FMPS Trento

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  26/10/2021 - 27/10/2021

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il programma del corso è scaricabile al seguente link.

Stampa il programma

Finalità

La conoscenza della tecnologia del vuoto è necessaria in molti campi della ricerca e sviluppo e industriali. Il corso intende essere un’introduzione alla tecnologia del vuoto, dal basso vuoto al medio e alto vuoto, con cenni all’ultra alto vuoto. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano tale tecnologia per le loro attvità. Non ha la pretesa di completezza, ma fornisce ampi riferimenti bibliografici, normativi, e di standard, per permettere, a chi intende approfondire qualche argomento, un approccio più rigoroso e scientifico.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

CORSO DI SPETTROMETRIA DI MASSA

  07/06/2021 - 08/06/2021

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il corso sarà organizzato come segue:

7 giugno
(10.00-11.15) Principi di base, caratteristiche componenti e utilizzo come diagnostica
Fabrizio Siviero, Saes Getters
(11.15-12.30) Calibrazione, sensibilità e instabilità
Giuseppe Firpo, Università di Genova
(14.00-15.00) Analisi di sistemi sigillati con spettrometri di massa
Enea Rizzi e Luca Mauri, Saes Getters
(15.15-16.30) Applicazioni industriali di spettrometria di massa
Patrick Walther (Pfeiffer Vacuum)

8 giugno
(10.00-11.15) Individuazione di contaminanti organici mediante spettrometria di massa
Francesco Saliu, Università di Milano Bicocca
(11.15-12.30) Analisi degli spettri (ovvero come leggere e interpretare gli spettri in sistemi HV o UHV)
Fabrizio Siviero, Saes Getters
(14.00-17.00) Tour dei laboratori R&D Corporate Saes Getters
sessione da remoto


Il programma in formato pdf è scaricabile qui.

Stampa il programma

Organizzato da

Il corso è organizzato dall'Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia in collaborazione con la società Saes Group

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Michele Mura - SAES Vacuum Technology Division, SAES Getters S.p.A

Docenti

Fabrizio Siviero, Enea Rizzi, Luca Mauri (Saes Getters)
Giuseppe Firpo (Università di Genova)
Francesco Saliu (Università di Milano Bicocca)

CORSO AVANZATO DI VUOTO: RICERCA DELLE PERDITE E CENNI ALL'ULTRA-ALTO VUOTO

  12/04/2021 - 14/04/2021

  Corso telematico con esperienza pratica in laboratorio (Milano)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Prerequisiti:

Conoscenza dei principi fondamentali della tecnologia del vuoto

Obiettivi:

I partecipanti acquisiranno il concetto di perdita in un sistema da vuoto, i fondamenti del rilevamento delle perdite e le sue applicazioni pratiche. Saranno in grado di verificare sistematicamente la tenuta dei sistemi da vuoto con gli strumenti commerciali più utilizzati e concludere se le eventuali perdite presenti possono essere compatibili con i processi realizzati all’interno dei sistemi stessi. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su: (i) sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10-8 mbar, (ii) gli strumenti di misura e la loro affidabilità, (iii) le tecniche di pulizia delle superfici.

Contenuti

12 aprile
H: 9:00 – 13:00
Teoria
  1. Ricerca delle Perdite
    • Richiamo ai concetti di portata, velocità di pompaggio e conduttanza
    • Definizione e significato di perdita
    • Tassi di perdita ammissibili e relazioni con le dimensioni geometriche della perdita
    • Metodi di ricerca localizzazione e misura - generalità:
      • Prove in pressione
      • Prove in vuoto
  2. Metodi di ricerca senza apparati dedicati
    • Test a bolle, salita della pressione, ….
H: 14:00-18:00
  1. Formulazione delle specifiche di perdita e selezione dei metodi di controllo
  2. Metodi di ricerca con apparati dedicati
    • Gas tracciante, calibrazione, sintonizzazione
    • Spettrometri a settore magnetico 180° (Leak detector)
    • Spettrometri di massa a quadrupolo
13 aprile
H 10:00 – 12:00 / 13:00 – 15:00

Esperienza in laboratorio (*)
Si terranno le seguenti attività:
  1. Illustrazione leak detector industriale ad elio 
  2. Ricerca fughe con vacuometro a ionizzazione
  3. Pompe primarie: struttura e funzionamento



14 Aprile
H: 09:00-13:00
  1. Ultra-Alto Vuoto
    1. Richiamo su concetti di flusso molecolare e gas rarefatti
    2. La produzione e la misura dell’ultra-alto vuoto
    3. La pulizia e il trattamento delle superfici
*Nota riguardante l'esperienza in laboratorio (13 aprile H10-12 e H13-15):
L’esperienza verrà eseguita in presenza presso i laboratori dell'azienda 5Pascal di Trezzano sul Naviglio (MI) SOLO SE LA SITUAZIONE EPIDIMIOLOGICA LEGATA AL COVID LO PERMETTERA’.
L'esperienza in laboratorio è tenuta grazie alla collaborazione della 5Pascal Srl.

Stampa il programma

Organizzato da

AIV - Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Il corso sarà basato su lezioni teoriche tenute in maniera telematica e su un'esperienza pratica in laboratorio per testare le strumentazioni e le nozioni apprese.
L'esperienza in laboratorio è tenuta grazie alla collaborazione della 5Pascal Srl.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Docenti

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Segreteria organizzativa

Angela Riggio, E-mail: segreteria@aiv.it

CORSO AVANZATO DI VUOTO: RICERCA DELLE PERDITE E CENNI ALL'ULTRA-ALTO VUOTO

  15/02/2021 - 16/02/2021 Febbraio 2021

  INFN – Sezione di Genova

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

PREREQUISITI:
Conoscenza dei principi fondamentali della tecnologia del vuoto.

OBIETTIVI: I partecipanti acquisiranno il concetto di perdita in un sistema da vuoto, i fondamenti del rilevamento delle perdite e le sue applicazioni pratiche. Saranno in grado di verificare sistematicamente la tenuta dei sistemi da vuoto con gli strumenti commerciali più utilizzati e concludere se le eventuali perdite presenti possono essere compatibili con i processi realizzati all’interno dei sistemi stessi. Una seconda parte relativa all’ultra-alto vuoto, permetterà ai partecipanti di acquisire una conoscenza critica su:
i) sistemi di pompaggio per raggiungere pressioni al disotto di 10-8 mbar,
ii) gli strumenti di misura e la loro affidabilità,
iii) le tecniche di pulizia delle superfici.

CONTENUTI
Il corso sarà strutturato su lezioni sia teoriche sia applicative, per poter applicare in laboratorio quanto imparato.

15 febbraio

H: 9:00 – 13:00
Teoria

  1. Ricerca delle Perdite
    • Richiamo ai concetti di portata, velocità di pompaggio e conduttanza
    • Definizione e significato di perdita
    • Tassi di perdita ammissibili e relazioni con le dimensioni geometriche della perdita
    • Metodi di ricerca localizzazione e misura - generalità:
      • Prove in pressione
      • Prove in vuoto
  2. Metodi di ricerca senza apparati dedicati
    • Test a bolle, salita della pressione, ….
H: 14:00-18:00
  1. Formulazione delle specifiche di perdita e selezione dei metodi di controllo
  2. Metodi di ricerca con apparati dedicati
    • Gas tracciante, calibrazione, sintonizzazione
    • Spettrometri a settore magnetico 180° (Leak detector)
    • Spettrometri di massa a quadrupolo
  3. Progettazione dispositivi  e sistemi leak-free
16 Febbraio

H 09:00 – 13:00
Laboratorio in presenza
Rilevazione e quantificazione di perdita in una camera da vuoto con leak detector industriale ad elio o prove di tenuta con spettrometro di massa a quadrupolo

H: 14:00-18:00
Ultra-Alto Vuoto
  1. Richiamo su concetti di flusso molecolare e gas rarefatti
  2. La produzione e la misura dell’ultra-alto vuoto
  3. La pulizia e il trattamento delle superfici

Programma orario
15 febbraio
9.00-13.00 Lezione teorica online
14.00-18.00 Lezione teorica online

16 febbraio
9.00-13.00 Esperienza in presenza in laboratorio
14.00-18.00 Lezione teorica online ed esame finale

Il programma può essere scaricato in pdf al seguente link.

Stampa il programma

Organizzato da

Il corso sarà tenuto in presenza nei laboratori del INFN di Genova e sarà attivato al raggiungimento di un numero minimo di iscritti.
Il corso è riservato ai membri del INFN di Genova, ma ci sono anche posti dedicati a partecipanti esterni
Si terrà nei giorni 15 e 16 febbraio 2021.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

CORSO BASE TECNICHE DI ANALISI DI SUPERFICIE DEI MATERIALI

  05/10/2020 - 06/10/2020 14.00 - 18.00

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

caratterizzazione SEM, EDX (5 ottobre), spettroscopia di fotoemissione (XPS e UPS) (6 ottobre)
Puoi scaricare il programma completo del corso al seguente link.


Stampa il programma

Finalità

Il corso AIV su “Corso base Tecniche di analisi di superficie dei materiali” riassume i principi di funzionamento del microscopio elettronico a scansione (SEM), della microanalisi (EDX), della spettroscopia di fotoemissione oltre ai recenti sviluppi di queste tecniche e alle loro applicazioni a film sottili e a campioni allo stato solido. L’obiettivo è fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie e inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano strumentazione di analisi di superficie.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Docenti

Giuseppe Firpo - Università di Genova
Letizia Savio - Istituto dei Materiali per l'Elettronica e il Magnetismo-CNR

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE IN VUOTO

  01/10/2020 - 02/10/2020 9.00 - 13.00

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Puoi scaricare il programma in pdf al seguente link

Stampa il programma

Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “Tecnologie di deposizione in vuoto” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie e inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca.

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione.

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università di Genova

Docenti

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi-CNR
Alberto Tagliaferro - Politecnico di Torino
David Dellasega - Politecnico di Milano

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  29/09/2020 - 30/09/2020 14.00 - 18.00

  Corso telematico

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Cinetica dei gas   
Principi di funzionamento delle pompe di basso e medio vuoto
Il regime molecolare, le pompe per l’Alto Vuoto    
L’Ultravuoto: il Degasaggio, le pompe ad assorbimento    
La misura della pressione    
I materiali per i Sistemi da Vuoto
Cenni alla ricerca delle perdite

Stampa il programma

Finalità

Lo scopo finale del corso è fornire ai partecipanti solide basi che consentano loro di utilizzare correttamente componenti, sistemi e impianti da vuoto, siano essi utilizzati per processi industriali (per es. deposizioni di film sottili) o per la realizzazione di analisi e misure (per es. spettrometria di massa).

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di pompaggio da vuoto.

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  03/02/2020 - 04/02/2020

  INFN- Sezione di Genova, Via Dodecaneso, 33

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

La conoscenza della tecnologia del vuoto è necessaria in molti campi della ricerca e sviluppo e industriali. Il corso intende essere un’introduzione alla tecnologia del vuoto, dal basso vuoto al medio e alto vuoto, con cenni all’ultra alto vuoto. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano tale tecnologia per le loro attvità. Non ha la pretesa di completezza, ma fornisce ampi riferimenti bibliografici, normativi, e di standard, per permettere, a chi intende approfondire qualche argomento, un approccio più rigoroso e scientifico.
Il corso è riservato al solo personale INFN della sezione di Genova.
Il programma completo del corso è scaricabile di seguito:
http://www.aiv.it/docs/1216551017_doc_XVI_corsoAIV_Vuoto_Base.pdf

Stampa il programma

Organizzato da

AIV: Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova  

Docenti

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD E CVD

  13/11/2019 - 14/11/2019

  Università di Genova

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori de  ll’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.  

Il programma completo è scaribabile di seguito:
corso AIV PVD-CVD.pdf

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  11/11/2019 - 12/11/2019

  Università di Genova

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

La conoscenza della tecnologia del vuoto è necessaria in molti campi della ricerca e sviluppo e industriali. Il corso intende essere un’introduzione alla tecnologia del vuoto, dal basso vuoto al medio e alto vuoto, con cenni all’ultra alto vuoto. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano tale tecnologia per le loro attvità. Non ha la pretesa di completezza, ma fornisce ampi riferimenti bibliografici, normativi, e di standard, per permettere, a chi intende approfondire qualche argomento, un approccio più rigoroso e scientifico.

Il programma completo del corso è scaricabile di seguito:
XV_corsoAIV_Vuoto_Base.pdf

Stampa il programma

Organizzato da

Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi CNR  
Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova  

Docenti

Giuseppe Firpo - Dipartimento di Fisica, Università  di Genova

HORIZON 2020 PROJECT MANAGEMENT AND FINANCE. FROM HORIZON 2020 TO HORIZON EUROPE

  09/05/2019 13.30-15.00

  Hilton Hotel, Viale Jannuzzo, 47, 98035 Giardini Naxos (ME)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Durante la XXIV Conferenza di AIV, sarà organizzato un corso sulle opportunità offerte dai Programmi Europei per la Ricerca e l’Innovazione; nello specifico Horizon 2020 e il futuro Horizon Europe.

Il corso prenderà in considerazione i vari aspetti legati ai contenuti ed alle principali differenze esistenti tra l’attuale programma ed il prossimo, con particolare attenzione alle modifiche delle linee guida, in funzione del migliore approccio ai nuovi bandi di ricerca.

Sarà condotta altresì un’attenta analisi afferente al project management e alla parte finanziaria dei sopracitati bandi, con particolare enfasi sui risvolti positivi che questi possono avere nei confronti delle imprese e dei centri di ricerca.

Successivamente alla parte espositiva, avrà luogo una fase di dialogo per rispondere ai quesiti dei presenti in merito alle procedure amministrative illustrate.

Il corso sarà tenuto in italiano.

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  07/05/2019 10:00-18:00

  Hilton Hotel, Viale Jannuzzo, 47, 98035 Giardini Naxos (ME)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

  1. Definizioni, proprietà dei gas e teoria cinetica
    1. Definizioni
    2. Leggi dei gas perfetti
    3. Teoria cinetica dei gas
  2. Flussi e conduttanze 
    1. Regimi di flusso
    2. Portata, conduttanza, velocità di pompaggio,
    3. Calcoli di conduttanze
    4. Equazione generale del pompaggio
  3. Produzione del vuoto
    1. Componenti di un sistema da vuoto
    2. Classificazione delle pompe
    3. Pompe primarie (rotative, a secco, a diaframma, Roots)
  4. Pompe da alto e ultra alto vuoto 
    1. Pompe turbo molecolari
    2. Pompe ioniche
    3. Pompe getter
    4. Pompe a diffusione
    5. Pompe a intrappolamento
  5. Misura del grado di vuoto 
    1. Generalità e classificazione
    2. Vacuometri meccanici
    3. Vacuometri a conducibilità termica
    4. Vacuometri a ionizzazione
    5. Significato e limiti delle indicazioni fornite dai vacuometri
    6. Analizzatore di gas residui
  6. Dimensionamento gruppi di pompaggio, ermeticità e materiali dei sistemi da vuoto, ricerca delle perdite 
    1. Cenno sul dimensionamento di alcuni semplici sistemi da vuoto
    2. Ermeticità: fuge reali e virtuali, metodi di diagnosi
    3. Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto 
    4. Metodi di ricerca delle perdite

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma - CNR, Milano
Luciano Scaltrito - Politecnico di Torino - TO

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  18/10/2018 - 19/10/2018 Dalle 9.00 alle 17.30

  Cittadella Politecnica – Politecnico di Torino Via Pier Carlo Boggio, 59 - Torino (TO)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

1. Definizioni, proprietà dei gas e teoria cinetica

a. Definizioni
b. Leggi dei gas perfetti
c. Teoria cinetica dei gas

2. Flussi e conduttanze
a. Regimi di flusso
b. Portata, conduttanza, velocità di pompaggio,
c. Calcoli di conduttanze
d. Equazione generale del pompaggio

3. Produzione del vuoto
a. Componenti di un sistema da vuoto
b. Classificazione delle pompe
c. Pompe primarie
i. Pompe rotative
ii. Pompe a secco
iii. Cenni su altre pompe: a diaframma, Roots, ...
d. Pompe alto vuoto

4. Misura del grado di vuoto
a. Generalità e classificazione
b. Vacuometri meccanici
c. Vacuometri a conducibilità termica
d. Vacuometri a ionizzazione
e. Significato e limiti delle indicazioni fornite dai vacuometri
f. Analizzatore di gas residui

5. Dimensionamento gruppi di pompaggio, ermeticità e materiali dei sistemi da vuoto, ricerca delle perdite
a. Cenno sul dimensionamento di alcuni semplici sistemi da vuoto
b. Ermeticità: fuge reali e virtuali, metodi di diagnosi
c. Caratteristiche dei materiali impiegati nei sistemi da vuoto
d. Cenni su metodi di ricerca delle perdite

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma - CNR, Milano
Luciano Scaltrito - Politecnico di Torino - TO

Relatore
Dr. Giuseppe Firpo – Università degli Studi di Genova

L’edizione autunnale del Corso base di Tecnologie del vuoto, tenuto per l’occasione al Politecnico di Torino, grazie alla collaborazione dell’Incubatore Imprese Innovative I3p, ha visto la partecipazione di 24 persone. Il corso ha avuto una durata di due giorni, nei quali sono stati trattati dal docente Giuseppe Firpo le tematiche inerenti alle tecnologie del vuoto, rispondendo inoltre alle esigenze informative degli studenti presenti.

IV CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD E CVD

  18/10/2018 - 19/10/2018 Dalle 9.00 alle 17.30 [corso tenuto in italiano]

  Cittadella Politecnica – Politecnico di Torino Via Pier Carlo Boggio, 59 - Torino (TO)

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

- Plasma Deposition Technologies    
- Pulsed laser deposition (PLD)    
- Evaporazione da fasci elettronici pulsati    
- Chemical Vapour Deposition    
- Caratterizzazione delle superfici dei materiali

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Coordinatori

Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma ” Piero Caldirola” - CNR
Luciano Scaltrito - Politecnico di Torino

SEGRETERIA ORGANIZZATIVA
Angela Riggio, E-mail: segreteria@aiv.it

L’edizione autunnale del Corso di Tecnologie di Deposizione PVD e CVD, tenuto per l’occasione al Politecnico di Torino, grazie alla collaborazione dell’Incubatore Imprese Innovative I3p, ha visto la partecipazione di 10 persone. Il corso ha avuto una durata di due giorni, nei quali sono stati trattati dai relatori le tematiche inerenti alle tecnologie di deposizione PVD e CVD, rispondendo inoltre alle esigenze informative degli studenti presenti.

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  27/11/2017 - 30/11/2017 per 4 pomeriggi da lunedì a giovedì [corso tenuto in italiano]

  ASG Superconductors Spa Corso F.M.Perrone, 73R 16152 Genova

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

  • Definizione, proprietà del gas e teoria cinetica
  • Flussi e conduttanze
  • Produzione del vuoto
  • Misura del grado di vuoto
  • Dimensionamento gruppi di pompaggio, ermeticità e materiali dei sistemi da vuoto, ricerca delle perdite

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

Docenti

Dr. Firpo Giuseppe - Università degli Studi di Genova

CORSO BASE DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  20/10/2016 - 21/10/2016 Dalle 9.00 alle 17.00 [corso tenuto in italiano]

  Università di Milano – Bicocca Dipartimento di Scienze dei Materiali. Via Roberto Cozzi, 53 – 20125 Milano

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

1. Definizioni, proprietà dei gas e teoria cinetica
2. Flussi e conduttanze
3. Produzione del vuoto
4. Misura del grado di vuoto
5. Dimensionamento gruppi di pompaggio, ermeticità e materiali dei sistemi da vuoto, ricerca delle perdite

Stampa il programma

Organizzato da

AIV Associazione Italiana di Scienza e Tecnologia

CORSO DI SPETTROMETRIA DI MASSA – PRINCIPI DI UTILIZZO E APPLICAZIONI

  24/11/2015 - 25/11/2015

  SAES GETTERS S.p.A Viale Italia, 77 – Lainate MI – Italy

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il programma del corso è scaricabile al seguente link.







Stampa il programma

Finalità

Il  corso  è  rivolto  a  principianti  e  utilizzatori  della  spettrometria  di  massa  che desiderano approfondire alcuni aspetti relativi alla tecnica e all'interpretazione degli spettri.  Con  il  corso  si  potranno apprendere  nozioni  relative  alla  calibrazione degli  strumenti,  per  ottimizzare  l’interpretazione  degli  spettri  ottenuti  durante  le misurazioni.  Saranno  forniti  esempi  di applicazioni  della  spettrometria  di  massa accademiche e industriali, con esempi pratici in laboratorio.

Coordinatori

– Paolo Michelato – LASA – INFN Milano
– Maccallini Enrico – SAES GETTERS S.p.A
– Espedito Vassallo – Istituto di Fisica del Plasma CNR

CORSO AVANZATO DI TECNOLOGIE DEL VUOTO

  14/10/2014 - 15/10/2014 9.00 - 16.00

  Università di Milano – Bicocca, Dipartimento di Scienze dei Materiali, Via Roberto Cozzi, 53 - 20125 Milano

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il programma è scaricabile al seguente link.







Stampa il programma

Finalità

Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, a lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che hanno già seguito un corso base di tecnologia del vuoto. Lo scopo di questo corso è fornire ai partecipanti ulteriori conoscenze sugli aspetti teorico-scientifici e pratici della tecnologia del vuoto che consentano loro di progettare un sistema da vuoto completo.

Coordinatori

Paolo Michelato - INFN Milano
Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma - CNR

CORSO DI TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD E CVD

  27/05/2014 - 24/05/2014

  Aviospace- Politecnico di Torino - Via Pier Carlo Boggio 59/61

Scopri di più
Scopri il programma

Programma

Il programma è scaricabile al seguente link.


Stampa il programma

Finalità

Negli ultimi anni, a causa della crescente necessità di produrre superfici dei materiali con elevate proprietà funzionali, si è assistito in molti settori industriali ad una rapida espansione delle applicazioni delle tecniche di deposizione di film sottili in condizioni di bassa pressione. E' frequente riferirsi a tecniche di deposizione di Physical and Chemical Vapor Deposition. Il corso AIV su “TECNOLOGIE DI DEPOSIZIONE PVD e CVD” si propone di fornire ai partecipanti solide basi su queste tecnologie, sulle tecniche di caratterizzazione ed inoltre un ampio panorama delle applicazioni industriali e delle rispettive prospettive di ricerca. Il corso è rivolto a tecnici di laboratorio, a ricercatori, lavoratori dell’industria o studenti delle facoltà scientifiche che utilizzano sistemi di deposizione o strumentazione di analisi di superficie.

Coordinatori

Monica Ferraris - Politecnico di Torino
Alberto Tagliaferro - Politecnico di Torino
Espedito Vassallo - Istituto di Fisica del Plasma - CNR